鹽霧試驗箱實驗水溶液要用氧化鈉和水開展配制，金屬材料的鹽霧腐蝕屬電化學(xué)反應(yīng)，鹽中殘渣的是多少對鹽霧測試結(jié)果有很大危害，如：NaI過多時，無形之中會提升金屬材料間的電勢差，或使金屬材料產(chǎn)生維護表層，進而危害金屬材料腐蝕深度;Cu、Ni正離子具備加快腐蝕和影響實驗結(jié)果的功效，尤其是涂層、Cr涂層，與具體標(biāo)準下個人所得結(jié)果的可比性差，使中性化鹽霧測試的可信性較差，因而務(wù)必嚴控Cu、Ni殘渣成分。

　　大眾和PSA的控制內(nèi)容大致相當(dāng)，只是雜質(zhì)的總質(zhì)量分數(shù)有所不同，二者之間的關(guān)系相當(dāng)于分析純NaCl與優(yōu)級純NaCl的差異。

 

　　規(guī)范的內(nèi)容與現(xiàn)行標(biāo)準的GB1266-2006《化學(xué)試劑氯化鈉》大概相似，但GB1266-2006僅對碘化物有規(guī)定，對Cu、Ni則無規(guī)定。規(guī)范對鹽霧試驗箱自來水的規(guī)定極為嚴苛，其自來水規(guī)范等同于GB/T6682-2008《分析實驗室用水規(guī)格和試驗方法》規(guī)范中的二級水。對NaCl中殘渣成分的規(guī)定比較比較寬松、必須嚴格控制水里的導(dǎo)電率相關(guān)。這類嚴苛的實驗自來水標(biāo)準可能大增加，應(yīng)用規(guī)范的鹽霧測試成本費。